Очередной нанометровый прорыв
Корпорация IBM анонсировала инструментарий, который позволит к 2011 году создавать сложных, высокопроизводительных и энергоэффективных микросхем на базе 22-нм технологического процесса. В настоящее время чипы выпускаются с применением 45-нанометровой технологии. Для этого применяется техника литографии, которая не позволяет создавать элементы микросхем размером в 22 нанометра. Новая разработка IBM называется "вычислительное масштабирование" (computational scaling).
В ней оптическое уменьшение схемы чипа не играет главной роли, как в литографии. При помощи сложных математических алгоритмов он преобразует и оптимизирует созданную разработчиками схему под новый техпроцесс. В конце августа 2008 года IBM совместно с AMD, Freescale и Toshiba первыми в мире создали ячейку памяти SRAM с соблюдением 22-нанометрового процесса. Intel намерена выпустить первые 22-нанометровые чипы в 2011-2012 годах.
TG Daily
В ней оптическое уменьшение схемы чипа не играет главной роли, как в литографии. При помощи сложных математических алгоритмов он преобразует и оптимизирует созданную разработчиками схему под новый техпроцесс. В конце августа 2008 года IBM совместно с AMD, Freescale и Toshiba первыми в мире создали ячейку памяти SRAM с соблюдением 22-нанометрового процесса. Intel намерена выпустить первые 22-нанометровые чипы в 2011-2012 годах.
TG Daily