Введен в строй завод для производства 45-нм микропроцессоров
Корпорация Intel официально объявила о начале выпуска микропроцессоров нового поколения для настольных ПК, ноутбуков, серверов и других вычислительных устройств на первом заводе корпорации Intel для крупносерийного производства продукции с использованием 45-нм производственного процесса. Завод находится в г. Чэндлере, шт. Аризона. Завод назван Fab 32, в его строительство было инвестировано $3 миллиарда. На заводе используется 45-нм производственный процесс Intel, основанный на достижениях корпорации в области изменения свойств некоторых областей транзисторов с целью уменьшения токов утечки.
В транзисторах, созданных с помощью 45-нм техпроцесса, применяются диэлектрик high-k на основе гафния с высоким коэффициентом диэлектрической проницаемости (для изготовления изолирующего слоя затвора) и металлические материалы для изготовления самого затвора. Эти транзисторы настолько малы, что на площади, которую занимает точка в конце этой фразы, их может поместиться более 2 миллионов. Эти процессоры не будут содержать свинца и галогенов. Официальное объявление первых 45-нм процессоров Intel запланировано на 12 ноября.
Fab 32 – шестой завод Intel, на котором используются 300-мм кремниевые подложки, и второй, который будет выпускать 45-нм процессоры. Корпорация Intel начала выпуск 45-нм процессоров на экспериментальном производстве в Орегоне, которое называется D1D, в январе. Теперь, после открытия предприятия Fab 32, будет запущено крупносерийное производство этой продукции. В следующем году планируется запустить еще два завода по изготовлению 45-нм процессоров с использованием 300-мм подложек: Fab 28 в г. Кирьят Гат, Израиль, и Fab 11Х в Рио-Ранчо, шт. Нью-Мексико. Использование 300-мм подложек позволяет сократить производственные затраты на один кристалл и общее количество используемых ресурсов.
Площадь "чистой комнаты" завода — 19805 кв.м, а общая производственная площадь составляет более 110 тыс. кв.м, что превышает площадь 17 полей для американского футбола вместе взятых. На заводе будут заняты более 1000 работников – рабочие, специалисты по автоматизации, тестировщики и технические руководители. На Fab 32 будет использоваться программа Intel для Аризоны по экономии и повторному использованию воды, которая позволяет уменьшить потребление воды при производстве продукции более чем на 70%.
Корпорация Intel также объявила о своих намерениях получить для нового завода официальный сертификат соответствия системе Leadership in Energy and Environmental Design (LEED). LEED – система экологической оценки зданий, разработанная американской организацией Green Building Council, которая устанавливает стандарты экологической безопасности в строительстве. Перед получением сертификата заявка рассматривается несколько месяцев.
В транзисторах, созданных с помощью 45-нм техпроцесса, применяются диэлектрик high-k на основе гафния с высоким коэффициентом диэлектрической проницаемости (для изготовления изолирующего слоя затвора) и металлические материалы для изготовления самого затвора. Эти транзисторы настолько малы, что на площади, которую занимает точка в конце этой фразы, их может поместиться более 2 миллионов. Эти процессоры не будут содержать свинца и галогенов. Официальное объявление первых 45-нм процессоров Intel запланировано на 12 ноября.
Fab 32 – шестой завод Intel, на котором используются 300-мм кремниевые подложки, и второй, который будет выпускать 45-нм процессоры. Корпорация Intel начала выпуск 45-нм процессоров на экспериментальном производстве в Орегоне, которое называется D1D, в январе. Теперь, после открытия предприятия Fab 32, будет запущено крупносерийное производство этой продукции. В следующем году планируется запустить еще два завода по изготовлению 45-нм процессоров с использованием 300-мм подложек: Fab 28 в г. Кирьят Гат, Израиль, и Fab 11Х в Рио-Ранчо, шт. Нью-Мексико. Использование 300-мм подложек позволяет сократить производственные затраты на один кристалл и общее количество используемых ресурсов.
Площадь "чистой комнаты" завода — 19805 кв.м, а общая производственная площадь составляет более 110 тыс. кв.м, что превышает площадь 17 полей для американского футбола вместе взятых. На заводе будут заняты более 1000 работников – рабочие, специалисты по автоматизации, тестировщики и технические руководители. На Fab 32 будет использоваться программа Intel для Аризоны по экономии и повторному использованию воды, которая позволяет уменьшить потребление воды при производстве продукции более чем на 70%.
Корпорация Intel также объявила о своих намерениях получить для нового завода официальный сертификат соответствия системе Leadership in Energy and Environmental Design (LEED). LEED – система экологической оценки зданий, разработанная американской организацией Green Building Council, которая устанавливает стандарты экологической безопасности в строительстве. Перед получением сертификата заявка рассматривается несколько месяцев.
